Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd.
Shanghai Ruifu Chemical Co., Ltd.

Produtos

Dipivaloilmetano (TMHD) CAS 1118-71-4 Pureza >98,0% (GC) Fábrica de alta pureza

Breve descrição:

Nome Químico: Dipivaloilmetano (TMHD)

CAS: 1118-71-4

Pureza: >98,0% (GC)

Líquido incolor a amarelo claro ou sólido de baixo ponto de fusão

Produção comercial de alta qualidade

E-Mail: alvin@ruifuchem.com



Detalhes do produto

Produtos Relacionados

Etiquetas de produto

Descrição:

Fornecimento do fabricante com produção comercial de alta qualidade
Nome Químico: Dipivaloilmetano CAS: 1118-71-4

Propriedades Químicas:

Nome QuímicoDipivaloilmetano
Sinônimos2,2,6,6-Tetrametil-3,5-Heptanodiona; 2,2,6,6-Tetrametilheptano-3,5-diona; DTM; Dpm-H; Tmhd-H
Número CAS1118-71-4
Número CATRF-PI1413
Status do estoqueEm estoque, produção em até toneladas
Fórmula MolecularC11H20O2
Peso molecular184,28
Ponto de fusão19℃
Ponto de ebulição80,0 ℃/12 mm Hg (aceso.)
Gravidade Específica (20/20℃)0,895~0,900
Índice de refração (N20/D)1,457~1,459
Solubilidade em ÁguaInsolúvel em água
MarcaRuifu Química

Especificações:

ArtigoEspecificações
AparênciaLíquido incolor a amarelo claro ou sólido de baixo ponto de fusão
Pureza/Método de Análise>98,0% (GC)
Conteúdo de umidade (K.F)≤0,50%
Impureza Única≤0,50%
Impurezas Totais<2,00%
Metais Pesados (como Pb)≤20 ppm
Espectrometria infravermelhaEstá em conformidade com a estrutura
Padrão de testePadrão Empresarial
UsoLigantes; Intermediários Farmacêuticos

Pacote e armazenamento:

Pacote: Garrafa, 25kg/Tambor, ou conforme necessidade do cliente.

Condição de armazenamento:Armazenar em recipientes fechados em local fresco e seco; Proteja da luz e da umidade.

Vantagens:

1

Perguntas frequentes:

Aplicação:

O dipivaloilmetano (CAS: 1118-71-4) tem amplas aplicações, que podem ser usadas como catalisador para uma variedade de reações de síntese orgânica, como catálise para algumas reações de ullmann difíceis, reações de acoplamento aromático, etc. Mais importante ainda, os complexos metálicos de Dipivaloilmetano podem ser amplamente utilizados como precursores de MOCVD e posteriormente preparados em filmes de metais preciosos e outros materiais semicondutores.

Deixe sua mensagem